Plasma ALD
Perustiedot
- Hankkija
- VTT Technical Research Centre of Finland Ltd, Y-tunnus 2647375-4
- Toteutuspaikka
- Uusimaa (FI1B1)
- Espoo
- Hankintalaji
- Tavarahankinta
- Menettely
- EU-hankinta
- Ilmoituksen tyyppi
- Jälki-ilmoitus
- Sopimusten kokonaisarvo
- 1 586 196 € (alv 0 %)
- Pääasiallinen CPV
- 42900000 Erilaiset yleis- ja erikoiskoneet
- Julkaistu
- 5.10.2023
Hankinnan tulos
| Voittaja | Sopimusarvo | Tarjouksia | Päätös |
|---|---|---|---|
| Veeco GmbH | 1 586 196 € | 1 |
Voittajista näytetään nimi ja Y-tunnus. ”Ei ilmoitettu” tarkoittaa, ettei ilmoituksessa ole tätä tietoa erälle tai sopimukselle.
Ilmoituksen teksti
Alkuperäinen teksti Hilmasta, muuttamattomanaThe object of the tender is a 2-chamber Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition Cluster with Automatic Wafer Handling (later also “Equipment” and/or "Tool") for coating of 200mm wafer substrates, or substrates that can be placed on such carrier wafers, with different metals, nitrides and oxides with process separation between metals/nitrides and oxides, and wafer handling from chamber-to-chamber and chamber-to-cassette without vacuum breaking.
The object of the tender process is described in more detail in the invitation to tender documents.
Hankinnan vaiheet
-
Tarjouspyyntö julkaistiin, määräaika 19.6.2023 klo 12.00.
-
Jälki-ilmoitustämä ilmoitus
Voittaja: Veeco GmbH.