REACTIVE ION ETCHING SYSTEM
Itä-Suomen yliopisto · Pohjois-Karjala
Perustiedot
- Tarjousten määräaika
- to 16.3.2023 klo 16.00 (päättynyt)
- Hankkija
- Itä-Suomen yliopisto, Y-tunnus 2285733-9
- Toteutuspaikka
- Pohjois-Karjala (FI1DC)
- Hankintalaji
- Tavarahankinta
- Menettely
- EU-hankinta
- Ilmoituksen tyyppi
- Hankintailmoitus
- Arvioitu kokonaisarvo
- 565 000 € (alv 0 %)
- Pääasiallinen CPV
- 38000000 Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja)
- Julkaistu
- 3.3.2023
Ilmoituksen teksti
Alkuperäinen teksti Hilmasta, muuttamattomanaREACTIVE ION ETCHING SYSTEM
Erän kuvaus
Purpose is to replace our current reactive ion etching system with a new one. The most important etching processes are Cl-based Cr etch, BCL3 based Al etch, and HBr based Si etch.
Hankinnan vaiheet
-
Hankintailmoitustämä ilmoitus
Tarjouspyyntö julkaistiin, määräaika 16.3.2023 klo 16.00.
-
Aiottu toimittaja: 2023/S ….