Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) System
Oulun yliopisto · koko Suomi
Perustiedot
- Ohjeellinen määräaika
- ma 10.8.2026 klo 23.59 (päättynyt)
- Hankkija
- Oulun yliopisto, Y-tunnus 0245895-5
- Toteutuspaikka
- koko Suomi
- Hankintalaji
- Tavarahankinta
- Menettely
- Avoin menettely, EU-hankinta
- Ilmoituksen tyyppi
- Ennakkoilmoitus määräaikojen lyhentämiseksi
- Arvioitu kokonaisarvo
- Ei ilmoitettu
- Pääasiallinen CPV
- 38000000 Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja)
- Sopimuskausi
- 12 kuukautta
- Julkaistu
- 26.6.2026
Ilmoituksen teksti
Alkuperäinen teksti Hilmasta, muuttamattomanaUniversity of Oulu is preparing a purchase of an inductively coupled plasma reactive ion etching (ICP-RIE) system. The system will be used in scientific research to fabricate microstructures for various applications, such as biomedicine, sensor technology, and optics.
For more information, please contact the contracting unit to organize a dialogue by 10.8.2026 at the address: hankinnat@oulu.fi.
Please note that contracting authority is on summer holiday during 11.7.-2.8.2026.